Bu rötuşlanmış bir resim olup, resmin özgün hâli üzerinde oynama yapılarak elde edilmiştir. Yapılan değişiklikler: Translation to English.Resmin özgün hâline şuradan erişilebilir: Vegleich Positiv- und Negativlack.svg.
Lisanslama
Ben, bu işin telif sahibi, burada işi aşağıdaki lisanslar altında yayımlıyorum:
atıf – Esere yazar veya lisans sahibi tarafından belirtilen (ancak sizi ya da eseri kullanımınızı desteklediklerini ileri sürmeyecek bir) şekilde atıfta bulunmalısınız.
benzer paylaşım – Maddeyi yeniden karıştırır, dönüştürür veya inşa ederseniz, katkılarınızı orijinal olarak aynı veya uyumlu lisans altında dağıtmanız gerekir.
Bu belgenin GNU Özgür Belgeleme Lisansı, Sürüm 1.2 veya Özgür Yazılım Vakfı tarafından yayımlanan sonraki herhangi bir sürüm şartları altında bu belgenin kopyalanması, dağıtılması ve/veya değiştirilmesi için izin verilmiştir;
Değişmeyen Bölümler, Ön Kapak Metinleri ve Arka Kapak Metinleri yoktur. Lisansın bir kopyası GNU Özgür Belgeleme Lisansı sayfasında yer almaktadır.http://www.gnu.org/copyleft/fdl.htmlGFDLGNU Free Documentation Licensetruetrue
İstediğiniz lisansı seçebilirsiniz.
Orijinal yükleme günlüğü
This image is a derivative work of the following images:
2010-02-15T19:06:07Z Cepheiden 600x300 (27606 Bytes) {{Information |Description={{en|1=Comparison of positive and negative foto resists}} {{de|1=Vergleich von Positiv- und Negativlacken bei der Fotolithografie}} |Source={{own}} |Author=[[User:Cepheiden|Cepheiden]] |Date=2010-02
Bu dosyada, muhtemelen fotoğraf makinesi ya da tarayıcı tarafından eklenmiş ek bilgiler mevcuttur. Eğer dosyada sonradan değişiklik yapıldıysa, bazı bilgiler yeni değişikliğe göre eski kalmış olabilir.